《化合物真空镀》

绪论17

第一章　沉积技术种类简介27

第二章　真空蒸发技术31

第三章　真空沉积层的耐久性及其表面清洁设备37

1．化学清洁37

2．离子轰击清洁42

3．气体在低气压下的放电47

4．离子轰击设备50

5．离子轰击57

6．真空沉积薄膜的耐久性59

第四章　光学干涉膜60

1．减反射膜61

2．耐久的减反射膜63

3．复层减反射膜69

4．高反射膜71

1．制取减反射膜层的控制设备73

第五章　干涉膜层沉积的控制设备73

2．多层干涉层的沉积设备81

3．膜层厚度的控制技术及其设备83

第六章　金属氧化物膜层制取85

1．序言85

2．金属氧化物的真空蒸发86

3．金属氧化物的反应溅射91

第七章　一系列氧化物膜层的制备99

1．光学的应用99

A．氧化铝99

B．二氧化钛100

C．氧化铁106

D．低反射比的吸收滤光片108

E．二氧化硅的蒸发109

第八章　导电性的氧化物制备114