《国外半导体电子束曝光离子注入技术动向》
| 作者 | 上海科学技术情报研究所编写 编者 |
|---|---|
| 出版 | 上海科学技术情报研究所 |
| 参考页数 | 34 |
| 出版时间 | 1972（求助前请核对） 目录预览 |
| ISBN号 | 无 — 求助条款 |
| PDF编号 | 810411508（仅供预览，未存储实际文件） |
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电子束曝光技术动向1
一、电子束曝光技术的发展概况2
二、几种电子束曝光方法3
三、电子束曝光的应用概况5
四、几点情况8
参考资料13
离子注入技术动向15
一、国外离子注入法研究概况16
二、离子注入半导体器件动向17
三、离子注入设备动向24
四、离子注入技术动向27
参考资料34
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