《离子束技术及应用》求取 ⇩

第一章电子轰击离子源等离子体特性及设计基础1

第一节 等离子体特性参数4

第二节 离子源的电效率及气体利用率28

第二章离子光学系统及基本设计方法46

第一节 双栅离子光学系统48

第二节 谐振电荷交换及束流修正67

第三节 束流均匀性及特殊离子光学系统72

第四节 三栅和单栅离子光学系统80

第五节 栅板热稳定性研究89

第三章离子源结构设计优化法93

第一节 多极场离子源放电室结构及磁场94

第二节 发散场离子源放电室结构及磁场107

第三节 其他几种宽束离子源126

第四章离子源阴极的设计方法141

第一节 放电室阴极和浸没式中和阴极142

第二节 空心阴极149

第三节 氩等离子体桥式中和器（PBN）161

第四节 磁挡板168

第五章离子束刻蚀（IBE）工艺基础172

第一节 IBE在干法刻蚀工艺中的地位177

第二节 离子溅射效应179

第三节 IBE刻蚀速率及入射角效应188

第四节 离子轰击引起的材料损伤和温度效应217

第五节 工质气体的作用及IBAE方法225

第六节 离子束刻蚀均匀性及终点检测方法249

第七节 掩模特性对IM图形轮廓的影响267

第六章IBE在器件制造中的应用271

第一节 离子束刻蚀在多种器件制造工艺中的应用271

第二节 宽束离子源应用中的一些问题309

参考文献314