《离子束材料改性科学和应用》求取 ⇩

第一章 先进的离子束加工技术1

1．1 离子束技术种类和发展概况1

1．2 离子束加工的特点15

1．3 离子束工程学的研究对象17

1．4 离子束技术在材料科学研究中的重要地位20

1．5 离子束加工的经济效益22

1．6 离子束材料改性所取得的最新成果26

1．7 离子注入工业化发展趋势30

第二章 离子注入和离子束加工中相关的物理问题36

2．1 离子注入和离子束加工分类36

2．2 离子束与材料表面相互作用的特殊物理问题38

2．3 离子注入晶格原子位移率47

2．4 碰撞级联体温升52

2．5 注入过程中基体的平均温升和对注入元素分布的影响54

第三章 大规模集成电路(VLSI)离子注入浅结和快速退火58

3．1 集成电路离子注入浅结工艺58

3．2 白光退火设备和特性67

3．3 瞬态退火中晶格结构恢复的沟道分析70

3．4 晶格结构电子显微镜分析72

3．5 注入和快速热退火(RTA)引起晶格应力的变化76

3．6 RTA退火后PN结扩展电阻和载流子浓度分布测量81

3．7 快速退火与瞬态增强扩散87

3．8 缺陷和应力对PN结漏电的影响98

4．1 离子注入在集成电路中的关键技术102

第四章 硅和GaAs集成电路中离子束微细加工技术102

4．2 离子注入BiCMOS电路106

4．3 离子掺杂在砷化镓电路中的微细加工技术110

4．4 离子注入GoAs集成电路隔离技术118

4．5 适合现代VLSI和ULSI电路制造的离子注入机121

第五章 高能离子注入129

5．1 高能离子注入的射程和分布130

5．2 高能离子注入的损伤和退火138

5．3 抑制和消除二次缺陷的方法150

5．4 高能离子注入硅应力的控制151

5．5 高能磷离子注入硅表面高阻层的控制和消除154

5．6 高能离子注入分形158

5．7 高能离子注入的应用160

第六章 离子注入合成硅化物174

6．1 金属硅化物的发展概况174

6．2 金属硅化物的性质174

6．3 硅化物相图178

6．4 硅化物生长动力学182

6．5 离子注入埋层硅化物的合成190

6．6 离子束合成硅化物的结构202

6．7 硅化物生长动力学209

6．8 硅化钴埋层220

6．9 硅化钴的应用236

6．10 金属离子注入薄层硅化物的合成238

第七章 离子束表面摩擦磨损工程246

7．1 磨损机理247

7．2 离子注入改善表面摩擦特性的原理255

7．3 离子束金属表面强化规则258

7．4 离子注入表面摩擦特性268

7．5 离子注入工业应用290

第八章 离子注入热原子化学效应、表面抗腐蚀和抗氧化特性311

8．1 离子注入系统的热原子化学概念311

8．2 离子束材料改性中热原子化学效应312

8．3 离子注入硅SOI结构的形成316

8．4 离子注入表面抗氧化特性320

8．5 离子注入和离子束加工改善金属抗腐蚀特性324

8．6 离子注入金属材料抗腐蚀的实验结果326

8．7 腐蚀的测量331

8．8 MEVVA源金属单离子和双离子注入H13钢耐腐蚀性能335

8．9 磁过滤MEVVA弧源沉积和注入改善H13钢腐蚀性能340

8．10 金属离子注入材料表面的电催化性能341

第九章 离子注入在医疗上的研究和应用346

9．1 离子注入钛合金人造假肢347

9．2 N离子注入钛合金抗磨损特性353

9．3 氧、氮、碳和硼离子注入钛合金抗磨损特性357

9．4 离子注入在医疗上的应用362

9．5 离子注入改善高分子聚合物(PMMA)与钛合金的对磨特性363

9．6 离子注入生物材料抗腐蚀特性367

9．7 离子注入改善Co-Cr合金和不锈钢与PMMA对磨特性370

9．8 离子束加工人体植入体表面改性373

第十章 离子注入陶瓷表面改性384

10．1 离子注入陶瓷材料改性特点385

10．2 离子注入Al2O3的SiC辐射损伤393

10．3 离子注入陶瓷和氧化物结构变化的判据399

10．4 离子注入陶瓷退火特性410

10．5 α-Al2O3中注入杂质对退火特性的影响417

10．6 退火气氛对退火特性的影响421

10．7 离子注入α-Al2O3电荷态的变化425

10．8 SiC和Si2N4的退火特性430

10．9 离于注入陶瓷的机械特性433

10．10 离子注入陶瓷抗磨损特性454

10．11 摩擦对自滑润的选配457

10．12 离子注入WC-Co合金特性458

10．13 离子注入陶瓷表面导电特性461

11．1 离子注入高分子聚合物发展概况466

第十一章 离子注入高分子聚合物466

11．2 离子束改性的聚合物种类467

11．3 离子注入过程中的原子发射468

11．4 聚合物化学配比的变化476

11．5 离子束的聚合效应479

11．6 离子辐照下分子交联和降解484

11．7 聚合物的溶解度495

11．8 离子辐照聚合物的电特性502

11．9 离子注入聚合物光学特性的变化517

11．10 离子注入聚合物结构变化522

11．11 离子注入聚合物表面改性530

11．12 离子注入在微电子学上的应用538

11．13 离子注入在未来的分子电子学中的作用547