《离子束表面强化》求取 ⇩

第一章概述1

一、离子束强化方法及其特点2

二、离子束与材料的相互作用6

三、应用概况10

参考文献15

第二章溅射镀膜17

一、溅射镀膜的原理22

(一)气体放电22

(二)离子溅射40

(三)各种不同的溅射镀膜方法49

(一)溅射产额和镀膜沉积速率75

二、溅射镀膜工艺75

(二)膜厚分布以及气体在膜层中的混入86

(三)溅射靶及合金膜的镀制89

(四)溅射气体和化合物膜的镀制95

(五)溅射镀膜的过程监测96

三、磁控溅射源110

(一)内圆柱状和外圆柱状磁控溅射源112

(二)溅射枪(S-枪)磁控溅射源117

(三)平面磁控溅射源119

四、溅射镀膜的应用123

(一)在半导体器件中的应用127

(二)用于透明导电膜129

(三)用于钽和钽的化合物薄膜131

(四)用于金属膜电阻132

(五)用于薄膜磁头的耐磨损膜132

(六)用于热写头的耐磨损膜133

(七)用于硬化膜134

(八)用于切削刀具和模具的超硬膜134

(九)用于耐蚀膜136

(十)用于固体润滑膜136

参考文献139

第三章离子镀143

一、离子镀原理152

(一)离子轰击在离子镀过程中的作用153

(二)离子镀过程中的离化率问题161

(三)离子镀的蒸发源、镀料气化和膜层沉积164

二、离子镀的类型及特点173

(一)直流二极型173

(二)三极型和多阴极方式的离子镀175

(三)活性反应蒸镀法(ARE)177

(四)空心阴极放电离子镀195

(五)射频放电离子镀(RFIP)206

(六)簇团离子束镀210

(七)多弧离子镀212

(八)电弧放电型高真空离子镀221

(十)离子束辅助沉积223

(九)溅射离子镀223

三、离子镀的应用224

(十一)双离子束镀224

(一)如何选择镀层—基体系统233

(二)离子镀用于切削刀具237

(三)离子镀的其它耐磨损应用252

(四)离子镀在耐热抗蚀方面的应用261

(五)离子镀在润滑方面的应用270

(六)活性反应离子镀、反应溅射TiN装饰镀层的应用280

参考文献287

第四章离子注入291

一、概述291

(一)射程概念296

二、离子注入原理296

(二)阻止本领和射程298

(三)注入元素的浓度分布304

(四)溅射和注入浓度极限305

(五)辐照损伤307

三、离子注入工艺及有关方法313

(一)反冲注入314

(二)离子束混合317

(三)动态反冲混合318

(四)温度效应323

(一)离子注入机的结构325

四、离子注入设备325

(二)离子源327

(三)分析器330

(四)偏转、扫描和聚焦332

(五)靶室334

五、离子注入的应用335

(一)在摩擦学方面的应用336

(二)在抗腐蚀方面的应用360

(三)在抗高温氧化方面的应用375

(四)在抗疲劳方面的应用389

参考文献397

(一)发展总形势412

结束语412

一、离子镀与溅射镀膜412

(二)有关镀层的某些基本问题413

(三)硬质镀层材料416

(四)复合镀层417

二、离子注入420

(一)技术、经济效果显著420

(二)工业应用量将继续增长421

(三)变化与发展422

参考文献424

附录本书出现的外国材料牌号成分对照表426