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第一章　高分辨率刻蚀1

1.1　引言1

目录1

1.2　改进刻蚀技术的必要性2

1.3　电子束刻蚀10

1.4　高分辨率刻蚀的技术长处17

1.5　电子束刻蚀的限制23

1.6　经济因素41

1.7　刻蚀工艺的现状和前景50

1.8　本书的内容54

参考文献55

2.1 引言58

第二章　电子束工艺58

2.2 电子在固体中的散射60

2.3　抗蚀剂图形77

2.4 电子抗蚀剂的特性92

2.5　采用电子抗蚀剂的工艺过程109

2.6　电子束对准128

2.7 小结137

参考文献139

第三章　电子束刻蚀的设备142

3.1 一般描述142

3.2　电子光学镜筒145

3.3 机器的设计和工作方式174

3.4 目前机器设备的技术水平198

参考文献215

第四章　用电子束刻蚀制造器件218

4.1　概述218

4.2　光刻蚀与电子束刻蚀的比较219

4.3　电子束刻蚀的特点223

4.4　用电子束刻蚀制造电子器件236

4.5　电子束刻蚀的工艺限制251

4.6　小结256

参考文献257

第五章　用电子束刻蚀制造掩模259

5.1　引言259

5.2　掩模制造的要求261

5.3　掩模制造的方法269

5.4　材料的选择278

5.5　工艺过程285

5.6　性能296

5.7　展望305

参考文献307

第六章　复制技术310

6.1 引言310

6.2　复制系统的物理基础313

6.3　复制系统的种类319

6.4　几种复制方法的比较353

参考文献355