《表2 NDI衍生物受体材料与P3HT的BHJ OSC器件性能》
虽然基于NDI的小分子材料性能不及PDI类小分子材料,但NDI类聚合物受体通常比PDI的聚合物受体表现出更加丰富的光学及电学性质,如基于NDI的经典n型聚合物N2200。如前所述,调节参与共聚的单体类型,可有效调节共轭聚合物光学性质及前线轨道能级,从而解决NDI带隙过宽的问题,使NDI类OSC器件获得更好的性能。Jenekhe等[27]研究了NDI和双硒酚共聚,形成了新的NDI聚合物B8。该聚合物具有较高的LUMO,能与P3HT的HOMO形成较大的差值,利于器件开路电压的提升。此外,该聚合物在成膜时具有有序的层状晶体结构,改善了器件的电荷迁移率,PCE为0.88%。Yang等[28]通过对NDI聚合物侧链基团的调整,合成NDI-三苯胺交替共聚物B9和B10,其带隙分别为1.94 e V和1.84 eV,均下降至2.00 eV以下。可见,NDI聚合物可以通过调节共聚的单元,从而有效减低NDI本身较宽的能隙。从已有研究来看,与PDI类小分子材料不同的是,NDI作为聚合物受体材料的构筑单元,具有更大的优势及应用潜力。
图表编号 | XD0089668400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.09.24 |
作者 | 沈赵琪、程敬招、张小凤、黄微雅、温和瑞、刘诗咏 |
绘制单位 | 江西理工大学冶金与化学工程学院、江西理工大学冶金与化学工程学院、江西理工大学冶金与化学工程学院、江西理工大学冶金与化学工程学院、江西理工大学冶金与化学工程学院、江西理工大学冶金与化学工程学院 |
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