《表1 ITO退火由时间缩减到省略的实验设计及产品透过率》
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《ITO退火工艺对HADS型TFT-LCD透过率的影响》
基于生产效率的提升,充分利用后工段PI烘焙对两道ITO退火的补偿作用,对ITO退火由时间缩减到直接省略设计了阶梯实验,产品透过率的测试结果如表1和图3所示。在两道ITO退火都缩减至10min时产品的透过率基本不变。进一步地将2nd ITO退火省略,产品的透过率也未发生明显变化,这与此前的研究结论基本相符[7]。最后选择将1st ITO退火直接省略,产品的透过率则发生了明显的降低(各波长透过率的平均值下降约4%)。
图表编号 | XD0080525800 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.05.01 |
作者 | 安晖、操彬彬、栗芳芳、叶成枝、杨增乾、彭俊林、刘增利、吕艳明、陆相晚、张敏、陈婷婷、金珍、向康、金镇满、李恒滨 |
绘制单位 | 合肥鑫晟光电科技有限公司、合肥鑫晟光电科技有限公司、合肥鑫晟光电科技有限公司、合肥鑫晟光电科技有限公司、合肥鑫晟光电科技有限公司、合肥鑫晟光电科技有限公司、合肥鑫晟光电科技有限公司、合肥鑫晟光电科技有限公司、合肥鑫晟光电科技有限公司、合肥鑫晟光电科技有限公司、合肥鑫晟光电科技有限公司、合肥鑫晟光电科技有限公司、合肥鑫晟光电科技有限公司、合肥鑫晟光电科技有限公司、合肥鑫晟光电科技有限公司 |
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