《表4 H2的实证检验结果》

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《企业研发创新对股价崩盘风险的影响机制研究——来自中国A股市场的实证检验》

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如表4结果所示，利用前文构建的模型检验探索型专利和改进型专利对公司未来崩盘风险的影响。表4回归（1）中探索型专利对于DUVOL的影响系数为0.0937，且在5%的显著性水平上显著；表4回归（2）中探索型专利对于NCSKEW的影响系数为0.114，且在5%的显著性水平上显著。另外，表4回归（3）中改进型专利对于DUVOL的影响系数为0.0608，在10%的显著性水平上不显著，表4回归（2）中改进型专利对于NCSKEW的影响系数为0.0615，且在10%的显著性水平上不显著。