《表1 接触/接近式曝光机曝光方式类型》
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《扇出型芯片键合设备开发思路及整机框架结构设计与仿真》
同时，在高产率需求时基片与掩模版之间的间隙增大，接近/接触式光刻机的分辨率将会下降，如表1所示。
| 图表编号 | XD0055729600 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2019.06.20 |
| 作者 | 郭耸、张瑞平、赵滨 |
| 绘制单位 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司、上海微电子装备(集团)股份有限公司、上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
