《表1 多次曝光校正前后对比》

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《基于运动补偿的DMD无掩模光刻拼接误差校正》

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得到误差校正参数后，另取一块基板，对图像进行第二次曝光实验，实验结果如图8。对首次曝光实验和二次曝光实验结果进行对比，测量位置为图9中标号的位置，其中（3）～（8）位置测量Y轴方向的误差夹角，其余位置测量X轴方向的误差夹角，测量结果如表1所示。首次曝光误差倾角均值是1.860°、方差是0.045，经过倾角误差校正后，误差均值为0.235°，方差为0.007，平均缩减率是89%。首次曝光的中心偏移距离均值为0.175 mm，经过校正后中心偏移距离均值为0.021 mm。对校正后的误差进行分析，该误差主要与光刻胶性能、曝光时间、显影时间等多方面工艺因素有关，为进一步提高精度可以提高工艺水平。