《表2 XRD谱图的关键数据》
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《高功率脉冲磁控溅射沉积(AlCrNbSiTiV)N薄膜提升刀具的切削性能》
溅射功率为210 W时所得典型(AlCrNbSiTiV)N薄膜的XRD分析结果见图3和表2。从中可知,该薄膜是由单一面心立方(FCC)或多个体心立方(BCC)构成的固溶体结构,各氮化物之间相互固溶[3]。另外,AlCrNbSiTiV高熵合金中元素种类较多,且各元素的原子都是溶质原子,原子的尺寸差别大,晶格严重畸变,使晶格坍塌而形成非晶相[3]。
图表编号 | XD0055343900 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.07.15 |
作者 | 刘志伟、何靖国、林宇璇、张良超 |
绘制单位 | 东莞职业技术学院机电工程学院、龙华科技大学机械工程系、龙华科技大学机械工程系、东莞职业技术学院机电工程学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |