《表2 多晶掺磷后处理实验结果》

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《掺磷多晶硅工艺及其腐蚀速率的研究》

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多晶掺磷后，一般要在干法刻蚀掺磷多晶硅之前使用氢氟酸对多晶硅上的氧化层进行去除处理。为减少其他前道工序对实验的影响，将前步多晶硅掺磷实验中的1号片切割成若干小片，进行如表2所示的实验。