《表1 SU–8胶膜厚度均匀性》
图3为两个样片的胶厚分布,均匀性分析结果见表1。从表1中可以看出,样片A未经研磨抛光处理,两次匀胶后胶厚不均匀现象十分明显,最大厚度差为56μm,不均匀度为19.1%。而样片B经过研磨抛光处理后,胶厚不均匀性得到明显改善,最大厚度差减小到11μm,不均匀度则减小为4.1%。
图表编号 | XD0033706200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.01.15 |
作者 | 李晓军、吕辉、朱和卿、赵雯、杜立群 |
绘制单位 | 大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室、中国电子科技集团公司第十四研究所、大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室、大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室、大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室 |
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