《表1 SU–8胶膜厚度均匀性》

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图3为两个样片的胶厚分布,均匀性分析结果见表1。从表1中可以看出,样片A未经研磨抛光处理,两次匀胶后胶厚不均匀现象十分明显,最大厚度差为56μm,不均匀度为19.1%。而样片B经过研磨抛光处理后,胶厚不均匀性得到明显改善,最大厚度差减小到11μm,不均匀度则减小为4.1%。