《表2 胶膜线宽测量结果：雷达用高深宽比金属铜微通道散热器的制作》

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《雷达用高深宽比金属铜微通道散热器的制作》

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μm

以上光刻试验的结果表明，利用640mJ/cm2的曝光剂量得到的SU–8胶膜质量最好，同时避免了“根切”现象和内应力过大的问题，是制作金属微通道结构的最佳光刻工艺参数。