《表1 线宽测试结果：铜材料在新型触控技术及触控器件应用的研究》

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《铜材料在新型触控技术及触控器件应用的研究》

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使用铜金属膜层，正性光刻胶采用高分辨率、高感度材料，将正性胶膜厚设定为1.5μm、2.5μm，曝光量设定为50 mj，曝光间隙设定为100μm、150μm，光罩选用石英材质，网格图形的线宽设定为4μm。采用上述2.1.2所述的工艺流程制作金属网格得到的试验结果如表1所示。