《表3 Al2O3、MgF2沉积工艺参数》

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《基于浸没式光刻光束稳定系统的反射镜》

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在薄膜沉积之前，需清洁真空室、添加膜料、更换晶振片.用脱脂棉蘸取无水乙醇和无水乙醚混合液（按3:1体积比混合）沿同一方向擦拭熔融石英基片表面，再将其放入超声波清洗机中清洗.把清洁过的基片放入真空室的工件盘上，设置合适的转速后开始抽真空.当真空度达到1.0×10-6 mbar时，打开离子源轰击基片10min，采用电子束加热法按表3中的工艺参数沉积薄膜.