《表5 DOE设计预测最佳条件的验证》
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《基于0.13μm工艺的1.5V低功耗MOSFET器件设计》
根据DOE预测最佳条件进行重复验证,即根据之前DOE预测到的最佳结果重新流片,将最终结果汇总到表5,比较“DOE预测”列和“验证结果”列的数据就可以发现DOE实验设计的预测非常准确,“验证结果”列所有的参数和“目标”列比较都非常接近,也就说明相关的验证数据符合客户低功耗芯片的设计需要,说明了本次DOE实验设计非常成功。
图表编号 | XD0030513300 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.01.20 |
作者 | 王鹢奇 |
绘制单位 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |