《表2 等温度区间硅化物涂层增加厚度Tab.2 Increased thickness of the silicide coating in the temperature range》
当热处理温度达到NaF熔点时,NaF由固相变为液相,反应由(1)→(2),分子活化能量增加的同时叠加液相的NaF流淌浸润Si粉,使得反应进一步加快。当热处理温度达到Si单质熔点附近时,细小的Si单质固体颗粒熔化为液体,反应由(2)→(3),分子活化能量增加的同时叠加液态的NaF与液态Si,极大地加快了反应的速度。因而,1200~1400℃段涂层增加厚度最多,800~1000℃段涂层增加厚度次之,1000~1200℃段涂层增加厚度最少。
图表编号 | XD0028497000 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.01.20 |
作者 | 曹俊、刘伟、朱鹏飞、孙铁龙、李继文、潘昆明、魏世忠 |
绘制单位 | 河南科技大学材料科学与工程学院、河南科技大学高温结构与功能材料河南省重点实验室、河南科技大学材料科学与工程学院、河南科技大学高温结构与功能材料河南省重点实验室、河南科技大学材料科学与工程学院、河南科技大学高温结构与功能材料河南省重点实验室、河南科技大学材料科学与工程学院、河南科技大学高温结构与功能材料河南省重点实验室、河南科技大学材料科学与工程学院、河南科技大学高温结构与功能材料河南省重点实验室、河南科技大学高温结构与功能材料河南省重点实验室 |
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