《表2 等温度区间硅化物涂层增加厚度Tab.2 Increased thickness of the silicide coating in the temperature range》

《表2 等温度区间硅化物涂层增加厚度Tab.2 Increased thickness of the silicide coating in the temperature range》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
本系列图表出处文件名:随高清版一同展现
《料浆包渗法制备MoSi_2高温抗氧化涂层》


  1. 获取 高清版本忘记账户?点击这里登录
  1. 下载图表忘记账户?点击这里登录

当热处理温度达到NaF熔点时,NaF由固相变为液相,反应由(1)→(2),分子活化能量增加的同时叠加液相的NaF流淌浸润Si粉,使得反应进一步加快。当热处理温度达到Si单质熔点附近时,细小的Si单质固体颗粒熔化为液体,反应由(2)→(3),分子活化能量增加的同时叠加液态的NaF与液态Si,极大地加快了反应的速度。因而,1200~1400℃段涂层增加厚度最多,800~1000℃段涂层增加厚度次之,1000~1200℃段涂层增加厚度最少。