《表2 不同PCA球磨产物的晶粒大小》

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《过程控制剂对球磨法制备纳米硅粉的影响》

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图6为不同PCA球磨产物的XRD衍射图谱。其中图6（a）为原始硅粉的XRD衍射图谱，图6（b）为正己烷为PCA时球磨产物的XRD衍射图谱，图6（c）为去离子水为PCA时球磨产物的XRD衍射图谱，图6（d）为无水乙醇为PCA时球磨产物的XRD衍射图谱。其中图6（b）为在正己烷作为PCA球磨72h产物的XRD图谱，可以看出，球磨后产物的XRD图谱与原始产物相比，峰宽与峰高没有出现明显的宽化，表明硅颗粒的粒径较大，没有细化到纳米级别。而表2为根据谢乐公式所计算出的不同PCA球磨产物的晶粒大小，由于正己烷与原始硅粉晶粒尺寸大，应力引起的宽化明显，谢乐公式误差较大，而在去离子水与无水乙醇为PCA时，球磨产物的晶粒大小分别为18.1和18.6nm，表明这两种溶剂对于硅颗粒的细化起到了良好的效果。