《表1 不同硅膜厚度下晶体管Vth和静态电流》
图6显示了不同硅膜SOI电路静态电流的辐射响应。由图可知,硅膜厚度为190~200nm时,辐射后电路静态电流明显增大并且超规范;当硅膜厚度为205~210nm时,辐射后电路静态电流保持恒定不变。因此,电路的静态电流随辐射剂量的增加而漏电增大,随SOI材料硅膜厚度的增加而漏电降低。
图表编号 | XD00210032700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.12.01 |
作者 | 贺琪、顾祥、纪旭明、李金航、赵晓松 |
绘制单位 | 中国电子科技集团公司第五十八研究所、中国电子科技集团公司第五十八研究所、中国电子科技集团公司第五十八研究所、中国电子科技集团公司第五十八研究所、中国电子科技集团公司第五十八研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |