《表1 Hf O2的GIXRR拟合结构模型》

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《纳米尺度氧化铪薄膜膜厚标准物质的研制》

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考虑到基底与薄膜间不是理想的界面，基底在薄膜沉积前及沉积过程中可能会自然氧化，吸附潮气和杂质，同时界面附近材料会相互渗透，所以假设在拟合模型中薄膜和基底之间增加一层界面层；由于薄膜样品在储藏、使用中，薄膜表面与空气界面吸附杂质、水分、碳氢化合物等，所以在拟合模型中样品最上面增加一层表面污染层。拟合结构模型见表1，对应的拟合图形见图2。