《表3 4号样品GIXRR测量拟合结果Tab.3 Results of GIXRR measurement and fitting of sample 4》

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《纳米尺度HfO_2薄膜不同厚度对光学性质的影响》

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注:“*”表示结果只是参考值，并不作为最后的结果。

根据表3的拟合结果看，4号样品的拟合χ2值很小，与图6结果符合，说明拟合匹配度很好，拟合结果非常可靠。4号样品拟合时加入界面层3反而拟合结果不好，因此拟合模型中少了界面层3。Hf O2层下面的界面层的密度非常大，与Hf O2层接近，因此应该将这一层作为Hf O2结合层，Hf O2及其结合层的厚度值应为两者的和，厚度值为（9.33±0.44）nm。同理，Al2O3缓冲层的厚度应为Al2O3层和下面结合层的厚度和，厚度值为（10.14±0.45）nm，在1号样品的厚度值范围内，说明4号样品Al2O3缓冲层稳定，没有受到Hf O2生长影响。