《表5 高管IT背景与企业创新》

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《高管IT背景与企业创新：来自烙印理论的解释》

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注：*、**、***分别代表在10%、5%和1%的水平上显著；括号内为t值，经robust标准误调整；CVs代表所有的控制变量，限于篇幅，表格中未列示控制变量的回归结果。下同。

考虑到我国特殊的产权制度安排可能会影响高管IT背景与企业创新之间的关系，本文区分国有企业和民营企业进行分组回归，回归结果如表5所示。在国有企业样本中，高管IT背景（PRE-CEO＿IT）对企业创新（CI）的回归系数为0.2408，且在1%的水平上显著；在民营企业样本中，高管IT背景（PRECEO＿IT）对企业创新（CI）的回归系数为0.1184，且在1%的水平上显著；组间系数差异性检验显示，高管IT背景对国有企业创新的影响与对民营企业创新的影响没有显著性差异（Chi2值=1.97，P值为0.1604），进一步说明本文研究结论是稳健的。