《表6 海外背景高管与企业创新能力》
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《海外背景高管与企业创新——基于企业创新能力动态发展的视角》
注:***、**、*分别表示在1%、5%、10%的能力上显著,括号内为稳健标准误
为进一步确认本文研究结论的可靠性,我们使用发明专利申请数的自然对数表征企业创新能力重新进行OLS回归,结果如表6所示。可以看出,海外背景高管与较高的专利申请量显著正相关,说明海外背景高管发挥了其知识溢出效应的优势,克服了其“水土不服”的劣势,最终促进了企业创新。
图表编号 | XD0033739400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.01.15 |
作者 | 黄伟丽、马广奇 |
绘制单位 | 陕西科技大学经济与管理学院、陕西科技大学经济与管理学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |