《表5 门槛面板模型回归结果》

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《区域科技创新中的产研协同研究——基于广深港澳科技创新走廊的实证》

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注：*、**、***分别表示在10%、5%、1%置信区间内显著，括号里的数值为标准误差。

由表4可以看出，以R&D经费投入为门限变量时，科创走廊和科创回廊两种情形的单门限效应都在1%的显著性水平下显著，双门限效应都不显著，因此两者都采用单门槛模型研究科创投入与科创产出的关系。在此基础上，对科创走廊和科创回廊的回归结果见表5。