《表6 不同因素水平搭配下膜层的表面孔隙率》

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《频率、占空比及其交互作用对镁合金微弧氧化膜层结构和耐蚀性的影响》

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图3为基于正交实验制备的微弧氧化膜的表面形貌，表6为对应膜层的表面孔隙率。从图中可看出，不同方案下制备的微弧氧化膜表面都存在类似于“火山口”状的多孔结构，这跟微弧氧化的机理密切相关，即放电通道在电解液的淬火作用下快速冷却后，就逐渐形成了微孔。由图3可以看到，各方案下微弧氧化膜表面的微孔大小、数量有所不同。小占空比（图3b、d）下的微弧氧化膜，膜层表面微孔尺寸较小，微孔数量较多，表面孔隙率相对较小，如表6所示。大占空比（图3a、c）下，膜层表面微孔尺寸较大，微孔数量较少，表面孔隙率相对较大。频率增大时，膜层表面尺寸较大的微孔数量减少，表面孔隙率减小，而在高占空比下频率增大，使得膜层表面尺寸较大的微孔数量减少且表面孔隙率的减小更加明显。这是由于频率与占空比的交互作用在大占空比的条件下，抑制了成膜过程中由于能量集中导致膜层表面大孔的生成，改善了膜层的表面结构。