《表2 小尺寸方形晶体膜层的透过率峰值波长》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《旋涂法涂制溶胶凝胶改性SiO_2减反膜性能研究》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

单面旋涂工艺通常用于圆形基片涂膜，该方法在制备膜层过程中存在边缘效应，尤其在方形基片上运用单面旋涂法涂膜时会受到伯努利效应和几何效应等影响[12]。根据Meyehofer的理论[13]，旋涂法制备的膜层的最终厚度与溶剂挥发量、溶剂挥发速率、溶胶黏度、基片旋转角速度有关。在方形基片上涂膜时主要调节以上工艺参数，最终以800r·min-1的旋转速度在小尺寸方形KDP晶体基片上制备膜层均匀的减反膜。单面旋涂法在小尺寸方形晶体上的涂膜效果如图5所示。在日光灯下观察膜层的反射光颜色可以发现，旋涂法在50mm口径方形KDP晶体上涂制两种不同膜层厚度的减反膜后，整个KDP晶体基片表面的膜层均匀，4个角上基本没有膜层呈波浪纹或发散形等不均匀的情况。在图5所示的两块涂膜晶体基片上选取5个不同区域进行透过率测试，利用透过率峰值的波长位置判断膜层的均匀性，结果如表2所示。可以看出，涂制3ω减反膜的KDP晶体5个不同区域的透过率峰值为350nm左右，而涂制1ω/2ω减反膜的KDP晶体5个不同区域的透过率峰值为700nm左右，两块小尺寸晶体膜层光学厚度的均匀性较好。