《表4 Mo S2膜层试样基体状态》

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《铝合金不同氧化处理工艺对其表面溅射MoS_2膜层耐磨性的影响》

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先将镀膜基体放入丙酮中超声清洗10 min，除去基体表面污染物，然后装入真空腔室内的工件转盘上。利用辉光放电效应对样品表面进行辉光等离子体清洗[20]，清洗10 min后，开启Ti靶工作，在基体表面沉积厚约100 nm的Ti中间层，来提高Mo S2膜层与基体的结合力。最后4个靶同时开启，镀膜基体随工件转盘低速旋转，依次通过各溅射靶形成复合共溅射薄膜。表4为膜层试样基体的氧化处理状态。