《表3 样品#1和#2的晶粒大小Tab.3 Average grain size for sample#1and#2》

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《氧离子注入对氧化钒薄膜电学特性影响的研究》

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图5为低剂量O+注入前后的XRD图.由图可知，O+注入前后氧化钒都是非晶态的.为了进一步精确的分析，我们对O+注入前后的样品在24°~34°的范围内做了更加精细的XRD扫描，减小了XRD的扫描步长，延长了扫描时间.由图可知，未进行离子注入和O+注入的样品在2θ=29.9°都有VO2（220）峰，这也证实了Raman和FTIR的观察结果.对XRD峰进行高斯拟合，拟合它们的半高宽以及面积，拟合出来的结果在图5中.表3是根据谢乐方程（L=0.89λ/βcosθ）计算出来的O+注入前后VO2的晶粒大小.其中谢乐方程中的λ为X射线的波长（nm）；β为半高宽（rad.）；θ为衍射角（°）.