《表2 具有不同AlN缓冲层厚度的SiC薄膜的硬度与附着力变化》
图4(a)为具有不同AlN缓冲层厚度的SiC薄膜的硬度变化图(硬度和附着力均经过多次测量,取平均值)。可以看出,AlN缓冲层厚度在0~60nm时,随着缓冲层厚度的不断增大,SiC薄膜硬度也随之增大,这是因为AlN缓冲层的存在减少了Si基底与SiC交界处的应力,使得薄膜的硬度增大。当AlN缓冲层厚度超过60nm时,随着缓冲层厚度的增大,薄膜硬度不断减小。如图4(b)所示,薄膜的附着力也呈现相类似的变化趋势:当AlN缓冲层厚度在0~60nm时,SiC薄膜附着力随着缓冲层厚度增加不断增大,当AlN缓冲层厚度超过90nm时,随着缓冲层厚度的增大,薄膜附着力不断减小。不同薄膜的硬度与附着力变化总结于表2。
图表编号 | XD00165159500 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.05.01 |
作者 | 王昆仑、徐涛、王聪、罗淑琳、王婉霞、孙珲 |
绘制单位 | 山东大学空间科学与物理学院、山东大学空间科学与物理学院、山东大学空间科学与物理学院、山东大学机电与信息工程学院、山东大学机电与信息工程学院、山东大学空间科学与物理学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |