《表1 氮化硅薄膜非均匀性、折射率、透过率随N2 Flow的变化》

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《应用于AMOLED薄膜封装的高应力氮化硅工艺探讨》

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从图4可以看出，随着N2 Flow增加，膜层非均匀性逐渐下降，大规模量产时膜层的工程能力将得到改善。从图5可以看出，随着N2 Flow增加，膜层折射率下降、透过率增加，膜层光学特性得到改善。因次可以通过调节N2 Flow改善膜层均匀性及光学特性。