《表1 薄晶圆处理技术的重要趋势以及对用于大批量制造的预期》
最初,将晶圆厚度研磨到<100μm后,蜡是临时接合所用的主要粘合材料。但是蜡的流变性质很差,热稳定性有限,很难应用,这迫使高级的半导体封装需寻求更好的接合材料解决方案。因此,人们开发了多代的聚合物粘合剂,它们具有更高的加工热机械稳定性,并在加工结束后更易于剥离。通过这些材料,可以处理超薄的基材(<50μm),以及非常容易弯曲和变形的基材(例如高级FOWLP流程工艺中所用的重组晶圆和面板)。表1展示了薄晶圆处理技术的重要趋势,以及对该技术用于大批量制造的预期。
图表编号 | XD0014934700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.02.20 |
作者 | Ramachandran K.Trichur、Tony D.Flaim |
绘制单位 | Brewer Science,Inc.、Brewer Science,Inc. |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |