《表1 不同应力下蒙脱石结构优化的键长》

《表1 不同应力下蒙脱石结构优化的键长》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《高应力下蒙脱石电子结构第一性原理研究》


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由图1蒙脱石晶体结构可以看出,所有的氧原子虽然对称分布,但它们并不等价,其中氧原子可分为3种:硅环系统桥接到铝环系统的称为顶端氧(O2、O4、O6、O8);连接硅原子的氧原子称为环氧(O1、O3、O5、O7、O9、O10);连接内部氢原子的氧称为内部氧(O11、O12).由表1可知,当应力为0 GPa时,Si-O(顶端氧)键长.略长于Si-O(环氧),Al-O(顶端氧)键键长要长于Si-O(顶端氧)和Si-O(环氧)键长,此外,蒙脱石为2∶1的层状黏土矿物,在外界的应力作用下会导致结构体积和内部化学键的显著变化.从计算结果可以看出:随着应力从0~100 GPa增加,Al-O(顶端氧)键键长显著减少,由1.91?减少到1.76?,减少了0.15?,其中0~20 GPa变化了0.06?,占总变化的40%;到40 GPa变化了0.09?,占总变化的60%.Si-O(顶端氧)键键长和Si-O(环氧)键键长虽然也随着应力的增加而减少,分别减少0.07?和0.06?,变化并不明显.羟基H-O(内部氧)键长基本没有变化,维持在0.98?.总体来看Si-O键长小于Al-O键,并在应力的作用下Si-O键减小幅度更小,成键更加稳定,这也解释了蒙脱石内部的Al离子更容易被外界二价金属阳离子(如Mg2+)所置换.