《国外测试新技术晶体中缺陷的X射线貌相术观察》

作者	中国科学院上海冶金研究所X射线实验室译编者
出版	上海科学技术情报研究所
参考页数	191
出版时间	1974（求助前请核对）目录预览
ISBN号	无 — 求助条款
PDF编号	89275018（仅供预览，未存储实际文件）
求助格式	扫描PDF（若分多册发行，每次仅能受理1册）

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目录1

前言1

X射线貌相术在半导体晶体和器件研究上的应用4

使用由弯曲晶体造成单色发散线束的X射线衍射貌相术的新方法57

利用平行X射线束改善晶体莫尔条纹的可见度63

扫描X射线貌相术的反馈控制方案71

Lang貌相术的电-机械反馈控制78

X射线像的电视显示 I.X射线貌相图80

无位错硅中的空位团94

半导体器件工艺中的硅材料问题97

用X射线貌相术作工艺进程中硅内结构缺陷的测量123

磷进入硅中的反常扩散135

外延生长GaAs中的位错和界面上的面缺陷144

外延磁泡畴柘榴石的X射线双晶貌相术151

X射线貌相术在研究磁畴中的应用158

铌酸锂单晶的X射线貌相研究169

铝中位错的形成和运动的X射线貌相术研究177

人造石英中位错的X射线貌相研究182

1974《国外测试新技术晶体中缺陷的X射线貌相术观察》由于是年代较久的资料都绝版了，几乎不可能购买到实物。如果大家为了学习确实需要，可向博主求助其电子版PDF文件（由中国科学院上海冶金研究所X射线实验室译 1974 上海科学技术情报研究所出版的版本）。对合法合规的求助，我会当即受理并将下载地址发送给你。

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