《表1 器件尺寸变化数据:智能卡芯片中ESD的设计》
C G_d r a i n是指中间drain端的contact到poly的距离,CG_source是指source端的contact到poly的距离。图2(a),图2(b),图2(c)是第一组数据的测试结果;图3(a),图3(b)是第二组数据的测试结果。从第一组数据可知:随着CG_drain(D端con到gate间距)的变大,ESD器件的二次击穿电压变大,也就是防护性能会变强。从第二组数据可知:随着CG_source(s端con到gate间距)的变大,ESD的防护性能并没有显著变强。从TLP测试数据看,可以根据单组器件的TLP性能来设计相应的ESD防护器件。例如二次击穿电压所对应的电流为1 A,根据人体电阻,乘以1500,那么就意味着一组器件的HBM防护电压为1500 V,如果需要4 000 V的ESD性能,那么我们设计三组即可。当然整个芯片的ESD设计不仅仅取决于这几组器件的ESD性能,还需要和其他电路进行配合等,这也是需要进一步研究的地方。
图表编号 | XD0089805500 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.10.10 |
作者 | 马和良 |
绘制单位 | 聚辰半导体股份有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |