《表1 CuFe1-xTixO2 (0≤x≤0.08) 陶瓷样品的晶胞参数结果》

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《Ti~(4+)掺杂Fe位对CuFeO_2陶瓷材料结构和介电性能的影响》

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图1为CuFe1-xTixO2（0≤x≤0.08）陶瓷样品的XRD谱图.从图1a) 可以看出，与CFO陶瓷氧化物的标准PDF卡片（No.39—0246）衍射峰的位置相比，不同掺杂浓度下制备的样品其衍射峰的位置均与标准衍射峰的位置相吻合，并且在本实验选取的掺杂浓度范围内，所有掺杂样品的XRD图谱中均没有观察到杂相，说明掺杂样品都具有CFO氧化物结构的单一相.图1b) 给出了主衍射峰（006），（101） ，（102） ，（104） 的放大图谱，由图1b) 可以看出，主衍射峰的位置基本没有发生变化，表明各掺杂体系的晶胞常数基本没有变化.利用Powder-X计算晶胞参数，其结果如表1所示.由表1可知，晶胞参数变化很小，其主要原因可能是Ti4+掺杂量较小，且Fe3+离子半径与Ti4+相近.根据实验所测的XRD数据，结合谢乐公式计算样品的平均晶粒尺寸，与未掺杂样品相比，x=0.005和x=0.01的样品展现出较大的晶粒尺寸，且随着掺杂浓度的增加（x≥0.02），样品的晶粒尺寸有所减小.