《表5 辅助支撑销高度对均一性的影响测试》

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《TFT-LCD光刻工艺前烘对沟道膜厚均一性的影响》

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前烘热盘采用近距离加热方式，玻璃基板与热盘底部之间由多个辅助支撑销支撑，如图8所示，辅助支撑销高度为0.3mm，为了验证辅助支撑销高度对膜厚均一性的影响情况，将设备三个腔室所有辅助支撑销调整成0.5mm和0.7mm后，测试其对膜厚均一性的影响，测试数据如表5所示。