《表1 最新电子级多晶硅国家标准》

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《数值建模在电子级多晶硅制备中的应用》

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注：基体金属杂质和表面金属杂质的分析方法由供需双方协商解诀。

我国最新颁布的国家标准中，不仅对电子级多晶硅中B、P、C和O均有新的要求和标准，而且对电子级多晶硅中体金属和表面金属杂质浓度有更高的要求，GB/T12963-2014具体如表1所示[2]。