《表1 刻蚀时间对应的a-Si剩余量》
利用光学薄膜测厚仪(K-Mac)测试不同刻蚀时间下a-Si剩余量,结果如表1所示。
图表编号 | XD0080529700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.07.01 |
作者 | 田茂坤、黄中浩、谌伟、王恺、王思江、王瑞、董晓楠、赵永亮、闵泰烨、袁剑峰、孙耒来 |
绘制单位 | 重庆京东方光电科技有限公司、重庆京东方光电科技有限公司、重庆京东方光电科技有限公司、重庆京东方光电科技有限公司、重庆京东方光电科技有限公司、重庆京东方光电科技有限公司、重庆京东方光电科技有限公司、重庆京东方光电科技有限公司、重庆京东方光电科技有限公司、重庆京东方光电科技有限公司、重庆京东方光电科技有限公司 |
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