《表3 基准回归结果：研发支出、溢出池与专利申请——基于中国工业上市企业的经验研究》

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《研发支出、溢出池与专利申请——基于中国工业上市企业的经验研究》

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注:所有模型均未报告常数项的结果；括号内是聚类到企业层面的稳健标准误；***表示1%显著性水平，**表示5%显著性水平，*表示10%显著性水平；企业固定效应和年份固定效应均为“有”，下表同；N=12 000

从表3列（1）的结果可以看出，企业的上一期研发支出投入越多，当期的发明专利申请数量越多。然而，从列（2）～列（5）的回归结果来看，研发支出的系数显著为负，研发支出二次项的系数显著为正，这说明上一期研发支出和当期发明专利申请数量之间呈U形关系，两者的关系是非线性的。根据研发支出及其二次项的系数，可以计算得到U形关系的拐点在研发支出为595～1 256元之间，图3也印证了这点。由此可见，当企业研发支出为0（或特别少）时，员工从事创新主要靠内部激励。随着研发支出的增加，从事创新的外部激励逐步替代内部激励，总激励效果是先降后增。因此，企业研发支出与专利申请数量之间存在非线性相关关系，研究问题Q1得到回答。