《表3 施硅对镉胁迫下水稻籽粒部位镉含量的影响》

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《施硅对镉胁迫下水稻镉吸收和转运的调控效应》

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由表3可知，施硅处理能显著的降低泰优390籽粒中糙米和稻壳中镉含量。在Cd1（10μg·L-1）镉胁迫下，施用硅能降低糙米和稻壳中的谷壳含量，且施用量越高效果越明显。施用Si1（10 mg·L-1）、Si2（20 mg·L-1）和Si3（40 mg·L-1）3个处理糙米镉含量分别都达标，且分别比对照处理降低了40.62%、47.19%、54.69%，对稻壳也呈现一致规律，降低了22.47%、37.62%、38.59%。在Cd2（50μg·L-1）镉胁迫下，3个施硅处理分别使稻壳镉含量降低了12.18%、30.43%、43.38%，糙米的镉含量从0.56mg·kg-1分别下降到0.35、0.19、0.15 mg·kg-1，镉含量下降了37.21%、65.01%、72.35%，Si2（20 mg·L-1）和Si3（40mg·L-1）两个施硅处理能使在Cd2（50μg·kg-1）镉胁迫下糙米镉含量达到国家食品中污染物限量标准（≤0.2 mg·kg-1）。在Cd3（100μg·kg-1）镉胁迫下，3种施硅处理能显著降低籽粒中镉含量且对糙米镉含量各处理间差异显著。其中稻壳镉含量下降了17.26%、30.81%、42.9%，糙米镉含量从0.73 mg·kg-1下降到0.48、0.35、0.22 mg·kg-1，虽未能达到国家食品中污染物限量标准，但降低幅度较大，分别下降了34.34%、51.81%、70.56%。施硅与镉胁迫对水稻稻壳交互作用不显著（P>0.05），但对糙米有极显著影响（P<0.01）。