《表3 基于镀层自腐蚀电流密度的正交试验的极差分析》
注:K1,K2,K3是每个因素各个水平下的指标总和;R是极差。
分别以自腐蚀电流密度和镀速为指标对镀层进行正交试验的极差分析,得出化学镀Ni-P的最佳镀液配方。基于镀层自腐蚀电流密度和镀速的正交试验的极差分析结果分别见表3~4。
图表编号 | XD0031249300 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2019.02.01 |
作者 | 刘康灿、王芳芳 |
绘制单位 | 石家庄市第一中学、西安理工大学材料科学与工程学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
注:K1,K2,K3是每个因素各个水平下的指标总和;R是极差。
分别以自腐蚀电流密度和镀速为指标对镀层进行正交试验的极差分析,得出化学镀Ni-P的最佳镀液配方。基于镀层自腐蚀电流密度和镀速的正交试验的极差分析结果分别见表3~4。
图表编号 | XD0031249300 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.02.01 |
作者 | 刘康灿、王芳芳 |
绘制单位 | 石家庄市第一中学、西安理工大学材料科学与工程学院 |
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