《表3 不同p H值LDH-VO粉体改性的硅烷膜的动电位极化曲线拟合结果》

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《水滑石粉体的制备及其对硅烷膜性能的影响研究》

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由不同添加量的结果得到100 mg/L时，硅烷膜耐蚀性能较好，以此为基础，在KH550硅烷膜中添加100 mg/L的不同p H值的LDH-VO粉体，来考察不同p H值的LDH-VO粉体对硅烷膜层耐蚀性能的影响。图7为其动电位极化曲线图，表3为拟合出的电化学参数，如图8和表3所示，添加p H值为5的LDH-VO粉体改性硅烷膜用L-5表示，其余依次类推。如图所示，添加LDH-VO粉体后，其腐蚀电流密度左移，说明添加LDH-VO粉体后铝合金的腐蚀倾向降低，耐蚀性增加；且添加LDH-VO粉体后极化曲线出现钝化区，对阳极反应过程存在明显的抑制，说明添加LDH-VO粉体后铝合金的耐蚀性增加。添加p H值为7和9的LDH粉体后的膜层的阳极极化斜率最大，腐蚀电流密度小，此时膜层的耐蚀能力较好，基体腐蚀倾向小。其中当LDH-VO粉体的p H值为7时，硅烷膜的腐蚀电流密度最小为1.627×10-9A·cm-2，此时硅烷膜的耐蚀性能最好。