《Table 1 Interference study of Cd determination》

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《痕量镉离子在原位铋修饰掺硼金刚石电极上的传感分析》

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图12为向测试溶液中依次加入1，2和3倍量Cu2+后镉的溶出伏安曲线，当加入50μg/L Cu2+时，镉的溶出峰降低21.6%，加入100μg/L时降低72.4%，加入150μg/L时降低达88.5%，可见Cu2+对于测定有非常大的干扰.这是由于铜与铋竞争电极表面的活性位点，此外铜与镉会形成合金，从而导致镉在电极表面的富集作用减弱.因此，在测定镉离子时首先要去除铜离子的干扰，可以通过向溶液中加入亚铁氰化物形成沉淀物予以消除[27].由图12可见，加入亚铁氰化钾后，在150μg/L Cu2+存在时镉离子的溶出峰与只有镉离子时测试结果一致，表明Cu2+的干扰已消失.