《表4 优化后抛光变形程度》

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《大径厚比深拱形光学元件高抛变形抑制方法》

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注：AST表示象散（astigmatism）变形量；wave=632.8nm。

按照表1的工艺参数，采用优化后的夹具进行抛光，结果如图10所示。比较表2和表4可以看出，由于抛光变形造成的面形误差大幅下降，通过调整工艺参数可以有效改变面形精度。该试验说明拓扑优化后的夹具能够有效改善系统动态特性，大幅度降低了抛光变形对面形精度的影响。