《表4 两种材料单层膜应力》
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通过查阅相关论文，氧化膜层的应力主要取决于真空镀膜的工艺参数[17]，分别在此工艺下用台阶仪测量两种材料单层膜的应力，结果如表4.设Ti O2和Si O2应力函数分别为
| 图表编号 | XD00192649100 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2020.12.01 |
| 作者 | 刘冬梅、魏博洋、付秀华、张静、董所涛、李爽 |
| 绘制单位 | 长春理工大学光电工程学院、长春理工大学光电工程学院、长春理工大学光电工程学院、长春理工大学光电工程学院、长春理工大学光电工程学院、光驰科技(上海)有限公司 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
