《表2 Ga N在1%KBr O3溶液中的腐蚀电位和腐蚀电流密度与p H的关系》
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《光催化氧化对GaN材料腐蚀电化学及化学机械抛光的影响》
在探究p H对Ga N腐蚀电位的影响时,分别对酸性条件和碱性条件进行分析。从图3a可以看出在p H 3~6区间内,随着p H的增大,Ga N的腐蚀电位先负移后正移,在p H=4时达到最负;从图3b可以看出在p H 8~11区间内,随着p H的升高,Ga N的腐蚀电位逐渐负移,p H=11时最负。表2列出了不同p H下Ga N材料的腐蚀电位和腐蚀电流密度的对应关系。
图表编号 | XD00191717900 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2021.01.15 |
作者 | 韦伟、张保国、王万堂、李浩然、李烨 |
绘制单位 | 河北工业大学电子信息工程学院、天津市电子材料与器件重点实验室、河北工业大学电子信息工程学院、天津市电子材料与器件重点实验室、河北工业大学电子信息工程学院、天津市电子材料与器件重点实验室、河北工业大学电子信息工程学院、天津市电子材料与器件重点实验室、河北工业大学电子信息工程学院、天津市电子材料与器件重点实验室 |
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