《表4 PLS结构方程路径分析结果》

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《展厅现象下的销售人员创造力研究——一个有调节的双中介模型》

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注:*p<0.05，**p<0.01，***p<0.001（单尾检验）。

本研究通过建立偏最小二乘-结构方程（PLS-SEM）来检验模型中的假设。一方面是因为PLS对样本容量的要求很低、对残差分布没有限制，在小样本检验中依然具有较好的稳健性；另一方面是因为该方法允许在中介模型中添加调节变量，适用于本研究的模型。本研究使用的是Smart PLS 3.2软件。检验结果如表4所示。