《表1 β-HMX晶体主要生长面》
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《模拟技术在军事实验中的应用——以TATB基高能顿感含能材料为例》
常见的HMX晶体为β型,其各晶面的附着能、范德华力、静电力大小计算如表1所示,由该表可以看出在β-HMX晶体的(0 1 1)生长面上附着能最小,可知其为主要生长面,即在该面上最容易与其他分子形成氢键。
图表编号 | XD00147613100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.06.15 |
作者 | 陈云阁、王安舒、张国 |
绘制单位 | 海军大连舰艇学院、辽宁机电职业技术学院、海军大连舰艇学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |